池田屋新品ULVAC爱发科VSN7501

最新资讯 日本ULVAC爱发科 真空泵

一、半导体与制造‌

1. ‌芯片制造关键工艺‌

• 用于刻蚀、离子注入、薄膜沉积等环节，提供高洁净真空环境（干式泵避免油污染晶圆）。

• 溅射设备中维持10⁻³ P真空度，保障金属镀层均匀性（如GLD系列油旋片泵）。

2. ‌显示面板与光学镀膜‌

• 液晶面板生产的真空贴合工艺，确保无气泡缺陷。

• 光学镜片镀膜时提供稳定真空，提升薄膜附着力（DAP-6D隔膜泵适用小型设备）。

二、能源与化工‌

1. ‌新能源电池生产‌

• 电极材料干燥工序中创造无油真空，防止电解液污染。

• 太阳能电池硅片镀膜设备的真空系统。

2. ‌化工流程强化‌

• 真空蒸馏、分子蒸馏工艺的核心动力源（耐腐蚀型号处理酸性气体）。

• 腐蚀性气体回收（如DAT-100S干泵耐受HF、Cl₂）。

三、通用工业场景‌

核心性能优势‌

• ‌高洁净度‌：干式泵（如DAT系列）杜绝油蒸气反流，满足半导体级洁净要求。

• ‌强适应性‌：

• 油旋片泵（VDN301）支持高粉尘、水蒸气环境。

• 特殊涂层泵体耐腐蚀性提升3倍以上。

• ‌低维护设计‌：无弹簧旋片结构（如VSN2401）避免停泵故障，寿命延长40%。

注：油式泵需定期更换密封件和润滑油，建议按厂商指南维护。